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新型光整加工方法機械化學研磨的相關(guān)介紹-偉名石墨

機械力化學磨削是利用軟磨粒與工件接觸處產(chǎn)生的機械力化學現(xiàn)象,去除工件表面的微小物質(zhì)。新型光整加工方法近年來在生產(chǎn)加工領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。其主要優(yōu)點是經(jīng)濟性好,生產(chǎn)率高,半導(dǎo)體等晶體加工精度高。

1. 濕式機械力化學研磨

濕式機械化學研磨可用于硅片的最終整理。它使用直徑為0.01微米的二氧化硅磨料微粉,將膠體液體均勻地混合在弱堿溶液中作為磨料劑。質(zhì)地細膩的軟泡沫多胺人造革..

磨削時,工件直徑大,沒有柔軟的皮革網(wǎng)狀平面,因此在高速,高壓條件下,工件可在棉卷的磨料層的表面之間形成。棉卷的表面不規(guī)則性,盡管輕微,有的另一工件的接觸位置,風和雨,但該磨料工件和研具之間均普遍。當處理時,在晶片表面可以軟搭接和磨料除去水膜的形成。因此,拋光不是直接由搭接的機械作用,但除去由棉卷水合膜生產(chǎn)的,因此,可以進行良好的研磨。

然而,這些新型光整加工方法與上述并不完全相同,由于水化膜有時斷裂,硅片表面將存在加工缺陷。然而,這些缺陷可以通過清洗或HF水溶液腐蝕來消除,并且仍然可以得到?jīng)]有任何加工缺陷的表面..增加磨削壓力或減少磨削液的供應(yīng),增加了硅片表面的缺陷;當磨削速度增加時,由于水表面的漂浮現(xiàn)象,使磨削液膜層增厚,從而減少了硅片的表面缺陷。

為了降低磨削效率,機械化學磨削可分為兩個步驟: 第一步是使用粗磨料和通風良好的研磨工具,為了使研磨液膜變薄,利用磨料和工具表面的機械作用破壞水化膜,使研磨工具和硅片直接接觸,從而提高研磨效率。

2.干機械和化學研磨

干式化學拋光搭接作為玻璃板,軟二氧化硅研磨劑拋光藍寶石。研磨,在二氧化硅的表面和藍寶石之間的接觸會產(chǎn)生化學反應(yīng),以產(chǎn)生軟容易地除去富鋁紅柱石,使得高質(zhì)量的工件表面上。

干機械化學磨削的特點如下:

(1)化學反應(yīng)范圍小,有利于加工,磨料粉反應(yīng)性強,可明顯提高磨削效率,甚至比1微米粒度的金剛石粉還要高。

(2)工件表面不會產(chǎn)生劃痕,即使使用300攝氏度的熱磷酸蝕,也不會出現(xiàn)加工缺陷,因此磨削后的工件可以獲得良好的鏡面。

(3)研磨刀具磨削后采用玻璃板制成,研磨過程中研磨刀具幾乎沒有彈性變形,工件形狀的邊緣不會塌陷。

在生產(chǎn)過程中,有研磨的方法很多,拋光只是上述化學機械拋光的網(wǎng)站上常見的新型光整加工方法之一。對于加工企業(yè),生產(chǎn)加工時間必須根據(jù)其自身的特點選擇適合自己的工作方法,這樣不僅提高工作效率,而且成本高。

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